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什麼是光刻掩模闆

  • 發布時間:2018-12-10
  • 發布者: 百度百科
  • 來源: 百度百科
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  在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精确定位,以便用于光緻抗蝕劑塗層選擇性曝光的一種結構,稱為光刻掩模版。
  半導體集成電路制作過程通常需要經過多次光刻工藝,在半導體晶體表面的介質層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套(幾塊多至十幾塊)相互間能精确套準的、具有特定幾何圖形的光複印掩蔽模版。

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