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什麼是光刻掩模闆

2018-12-10

在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精确定位,以便用于光緻抗蝕劑塗層選擇性曝光的一種結構,稱為光刻掩模版。 半導體集成電路制作過程通常需要經過多次光刻工藝,在半導體晶體表面的介質層上開鑿各...

我國光掩膜版行業市場情況分析

2018-12-10

目前全球範圍内光刻掩膜版主要以專業生産商為主。由于下遊應用領域廠商自建光刻掩膜版生産線的投入産出比很低,且光刻掩膜版行業具有一定的技術壁壘,所以光刻掩膜版都是由專業的生産商進行生産。

創維進軍半導體投資2.4億元生産6英寸芯片

2018-12-10

半導體大廠專注于建造12英寸芯片廠、逐步淘汰轉移6英寸廠時,作為家電廠商的創維集團近日卻在深圳宣布啟動了2.4億元投資額的6英寸半導體芯片廠。創維對外一緻宣稱,公司進軍上遊,是為了構建完整的垂直産業鍊...

為什麼說光刻機很難制作,你真的知道其中原因嗎?

2018-12-10

首先是在技術上的難度:光刻機可以說每個部件都是科技含量很高,步步困難重重。瓶頸主要集中在透鏡、掩膜版、光源、能量控制器等。下面簡單單介紹光刻機的結構和工作原理:光刻機的光源有:激光,紫外光、深紫外光、...

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